基于卷积神经网络判定方法的激光微透镜阵列微米级加工工艺

作     者：姚宇超 周锐 严星 王振忠 高娜 YAO Yuchao;ZHOU Rui;YAN Xing;WANG Zhenzhong;GAO Na

作者机构：厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院福建厦门361005 福建省能源材料科学与技术创新实验室(IK K EM)福建厦门361005 厦门大学航空航天学院福建厦门361102 厦门大学物理科学与技术学院福建厦门361005 厦门大学九江研究院江西九江332000 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.62175203) 福建省科技计划资助项目(No.2020H0006) 嘉庚创新实验室应用基础研究资助项目(No.RD2020050301) 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：2024年第32卷第1期

页      码：43-52页

摘      要：在MLA曝光工艺中,曝光点的数量庞大,通过高倍率显微镜配合人工目检来判定曝光质量耗时耗力,造成工艺成本偏高。为了解决这个问题,设计了一种便于检测的圆环形图案并引入深度学习中的目标检测Yolov5模型,一定程度上能够取代人工目检,完成对曝光质量的快速判定。基于上述方法,分析了不同光刻胶厚度之下,线能量密度的最优区间与光刻胶的剖面倾角。并在同等线能量密度下通过圆度判定曝光图案失真情况。在本研究的MLA曝光工艺中,选取光刻胶厚度、激光曝光功率以及加工平台移动速度作为自变量,评价曝光合格率、光刻胶剖面倾角以及曝光圆度等加工质量参数具有重要的工程意义。

主 题 词：无掩膜光刻 微透镜阵列 曝光合格率 目标检测 

学科分类：080901[080901] 080704[080704] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0807[工学-电子信息类] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.37188/OPE.20243201.0043

馆 藏 号：203125441...