焦斑形态精细化设计及其性能分析

作     者：谭峭峰 严瑛白 金国藩 邬敏贤 徐端颐 

作者机构：清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室北京100084 

基　　金：国家 8 63惯性约束聚变领域资助课题 (863 -4 16-2 ) 国防科技重点实验室基金试点项目 (JS77-9)资助课题 中国博士后科学基金资助课题 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2001年第13卷第5期

页      码：611-614页

摘      要：对实现焦斑形态控制的衍射光学器件进行了精细化设计 ,模拟计算结果表明 ,可同时满足洞口附近旁瓣光强峰值不超过主瓣平均光强的 0 .0 1 % ,且主瓣顶部不均匀性小于 1 0 %。选取不同的采样间隔对比说明了精细化设计相对于传统设计 ,能真实准确地获得焦斑形态的性能参数。最后 ,采用功率谱密度 (PSD)方法初步分析了器件几何结构与焦斑性能 。

主 题 词：衍射光学器件 焦斑形态 精细化设计 旁瓣 功率谱密度 惯性约束聚变 

学科分类：08[工学] 082701[082701] 0827[工学-食品科学与工程类] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

馆 藏 号：203125819...