原子层沉积技术调控分子筛基催化剂研究进展

作     者：魏丽 王树元 闫梦霞 朱地 陶智超 徐丹 WEI Li;WANG Shuyuan;YAN Mengxia;ZHU Di;TAO Zhichao;XU Dan

作者机构：齐鲁工业大学(山东省科学院)能源研究所山东济南250014 中科合成油技术股份有限公司国家能源煤基液体燃料研发中心北京101407 

基　　金：国家自然科学基金(22002064) 山东省自然科学基金(ZR2020QB050,ZR2021MB046) 山东省青创计划(2021KJ033) 济南市“高校20条”项目(202228036) 科教产-强基计划(2022PY019)资助 

出 版 物：《燃料化学学报（中英文）》 (Journal of Fuel Chemistry and Technology)

年 卷 期：2024年第52卷第2期

页      码：285-292页

摘      要：分子筛基催化剂在多相催化研究领域具有重要的应用,但调控活性中心粒子的结构及其在分子筛上的空间位置仍比较困难,是科研界和工业界共同面临的巨大挑战。原子层沉积(ALD)是一种先进的薄膜沉积技术,利用其自限制生长优势,可在原子级别实现对金属粒子生长过程的精准调控。本工作综述了ALD技术在制备分子筛基催化剂方面的应用,主要包括利用ALD技术控制活性位点在分子筛上的生长落位、修饰分子筛骨架结构以及选择性沉积膜调变分子筛表面结构。利用ALD技术设计和调控活性组分结构促进了分子筛基催化剂的发展,但由于分子筛孔道结构复杂且存在缺陷位,因此,ALD技术在分子筛基催化剂的设计调控及大规模应用方面仍具有挑战性,也是今后研究工作的重点。

主 题 词：分子筛 原子层沉积 催化剂 调控 选择性沉积 

学科分类：081705[081705] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

核心收录：

D　O　I：10.19906/j.cnki.JFCT.2023056

馆 藏 号：203125855...