应用于大面积光刻的激光图案检测系统

作     者：侯煜 胡贞 王作斌 翁占坤 Hou Yu;Hu Zhen;Wang Zuobin;Weng Zhankun

作者机构：长春理工大学电子信息工程学院长春130022 长春理工大学国家纳米操纵与制造国际联合研究中心长春130022 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(61176002) 高等学校博士学科点专项科研基金资助项目(20112216110002) 吉林省科技发展计划资助项目(201115157 20110704) 

出 版 物：《中国科技论文》 (China Sciencepaper)

年 卷 期：2015年第10卷第8期

页      码：948-951,956页

摘      要：基于激光干涉光刻的基本原理,设计了新型的可应用于大面积光刻的激光图案检测系统,并阐述了利用电荷耦合元件对光刻图案的CMOS实时检测及实现大面积光刻的方法。实验结果表明,使用激光干涉光刻技术可以产生大面积的亚微米级周期性图案。该方法提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性。

主 题 词：激光干涉光刻 压电陶瓷控制 CMOS实时检测 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.2095-2783.2015.08.015

馆 藏 号：203125864...