基于轨迹修正的曲面抛光机器人终端滑模导纳控制

作     者：陈满意 朱义虎 韩天勇 朱自文 CHEN Manyi;ZHU Yihu;HAN Tianyong;ZHU Ziwen

作者机构：武汉理工大学机电工程学院湖北武汉430070 

出 版 物：《计算机集成制造系统》 (Computer Integrated Manufacturing Systems)

年 卷 期：2024年第30卷第2期

页      码：593-600页

摘      要：针对传统抛光机器人力控制算法在位置内环控制上稳定性差的问题,同时为减小力/位控制算法相互切换导致的抛光轨迹误差,提出一种基于轨迹修正的终端滑模导纳控制方法。在抛光过程中,将力传感器反馈的参数与期望力的差值作用于导纳模型产生位置修正量,设计了终端滑模控制模型作为位置内环控制环节,并通过实时反馈位置修正量进行轨迹跟踪。通过实际轨迹信息修正规划轨迹来减小抛光力误差,达到高精度抛光的效果。仿真实验表明,终端滑模导纳控制效果良好,在对轨迹进行修正后抛光力误差相对于修正前有明显改善。利用该模型抛光后表明,轮廓算数平均偏差达到0.035μm,抛光质量得到明显提高。

主 题 词：轨迹修正 终端滑模控制 导纳控制 多轴刀位点 高精度 

学科分类：080202[080202] 08[工学] 0804[工学-材料学] 0802[工学-机械学] 

核心收录：

D　O　I：10.13196/j.cims.2021.0654

馆 藏 号：203126134...