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高速单片数字相关器VLSI结构研究

高速单片数字相关器VLSI结构研究

作     者:文治平 吴一平 毕波 

作者机构:北京微电子技术研究所北京100076 

出 版 物:《半导体技术》 (Semiconductor Technology)

年 卷 期:2001年第26卷第4期

页      码:42-45页

摘      要:提出了一种高速单片数字相关器VLSI结构设计方法,结合扩频解扩芯片的实际需要,设计了包含16路数字相关器、集成规模达20万门的试验芯片,采用0.5μm三层金属CMOS工艺制造。测试表明,在3.3V工作电压和60MHz工作频率下,芯片的各项性能均达到设计要求。

主 题 词:集成电路 结构 CMOS工艺 VLSI 数字相关器 

学科分类:080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

D O I:10.3969/j.issn.1003-353X.2001.04.013

馆 藏 号:203127348...

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