灯丝型辅助离子源的设计及其对薄膜参数的改善研究

作     者：任翼 张殷 周亚东 金尚忠 Ren Yi;Zhang Yin;Zhou Yadong;Jin Shangzhong

作者机构：中国计量大学光学与电子科技学院浙江杭州310018 苏州岚创科技有限公司江苏苏州215151 

基　　金：国家科学自然基金项目-表面等离激元增强效应模型建立及验证研究(22204154) 

出 版 物：《电镀与精饰》 (Plating & Finishing)

年 卷 期：2024年第46卷第7期

页      码：99-106页

摘      要：为了以较低成本的技术提高磁控溅射沉积薄膜的纯度、致密性和均匀性,设计出一种可以活化氧气的双腔室直流加热灯丝型辅助离子源。通过实验改变辅助离子源的工作参数,探究其对磁控溅射镀膜机所沉积薄膜的光学参数的影响。通过对比不同工艺条件下所沉积薄膜的透过率、折射率、基板上膜层不同位置的相对厚度,最终证明设计提出的辅助离子源可以一定程度改善Ta_(2)O_(5)和SiO_(2)单层镀膜的透过率、折射率以及均匀性,提升了原磁控溅射镀膜机的镀膜质量和有效镀膜面积,对提高镀膜生产效率具有一定指导意义。

主 题 词：离子源 结构设计 离子束辅助沉积(IBAD) 光学薄膜 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-3849.2024.07.015

馆 藏 号：203128365...