SUVA工艺改善色偏研究

作     者：张勇 李林 任驹 李凡 彭林 吴潘强 ZHANG Yong;LI Lin;REN Ju;LI Fan;PENG Lin;WU Panqiang

作者机构：成都京东方显示科技有限公司成都610299 

出 版 物：《光电子技术》 (Optoelectronic Technology)

年 卷 期：2024年第44卷第2期

页      码：168-172页

摘      要：为优化SUVA3工艺中左右视角色偏(CR_((80/20)))较UV^(2)A工艺差的问题,从工艺、设计等方向,进行了组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO狭缝角度、偏光片角度(WGP)等条件的探究。结果表明:组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO角度、WGP角度均可优化色偏,但从色偏收益和量产性角度考虑,ITO Slit角度+WGP角度调整更优,其最优条件为:WGP角度为f°(极限角度)+ITO狭缝角度为I°,可将SUVA3工艺色偏优化至UV^(2)A工艺水准,CR_((80/20))可达到35.6%。

主 题 词：方位角 氧化铟锡薄膜狭缝 金属线栅偏振器 色偏 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.12450/j.gdzjs.202402015

馆 藏 号：203128374...