等离子体增强化学气相沉积设备的技术要点及性能分析

作     者：任想想 Ren Xiangxiang

作者机构：浙江丽晖智能装备有限公司浙江丽水323000 

出 版 物：《模具制造》 (Die & Mould Manufacture)

年 卷 期：2024年第24卷第7期

页      码：150-152页

摘      要：等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种重要的表面涂覆技术,可用于制备薄膜材料。对此,需要研究并分析等离子体增强化学气相沉积设备的技术要点和性能,介绍PECVD设备的基本构成和工作原理,研究PECVD设备的关键技术要点。其中,气体供给系统的精确控制是实现均匀沉积薄膜的关键。为了提高沉积速率和薄膜质量,需优化反应室的设计以确保等离子体的均匀分布和稳定性。此外,射频电源的功率和频率的选择也对薄膜质量有重要影响。实践证明,通过研究技术要点和性能分析,可进一步优化设备参数,提高薄膜质量和沉积效率,为相关领域研究提供有力支持。

主 题 词：等离子体 化学气相沉积设备 技术要点 性能分析 

学科分类：08[工学] 0802[工学-机械学] 

D　O　I：10.13596/j.cnki.44-1542/th.2024.07.048

馆 藏 号：203128772...