多弧离子镀膜工艺的技术开发

作     者：曾凤章 徐新乐 吴玉广 Zeng Fengzhang;Xu Xinle;Wu Yuguang

作者机构：北京理工大学管理与经济学院 北方工业总公司新技术推广研究所 

出 版 物：《北京理工大学学报》 (Transactions of Beijing Institute of Technology)

年 卷 期：1999年第19卷第1期

页      码：127-132页

摘      要：目的研究膜层牢固度好、满足各种用户对膜层厚度要求、质量一致性好的多弧离子镀膜工艺参数组合．方法运用日本田口玄一创立的稳健性设计方法进行研究．结果与原工艺膜厚相比均匀性提高约６．５ｄＢ，并找出膜厚与弧电流之间的线性关系；硬度一致性提高约３．４ｄＢ，显微硬度值提高约９３７ｋｇ·ｍｍ－２．结论动态特性的稳健性设计是一种高效率、高再现性的技术开发方法．

主 题 词：多弧离子镀 动态特性 膜层厚度 镀膜 表面处理 

学科分类：0810[工学-土木类] 080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0812[工学-测绘类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-0645.1999.01.029

馆 藏 号：203130231...