大气环境中Al5052光谱发射率研究

作     者：张凯华 于坤 刘玉芳 王文宝 

作者机构：河南师范大学物理与电子工程学院河南新乡453007 兴义民族师范学院物理系贵州兴义562400 

基　　金：国家自然科学基金(61127012 61307122) 贵州省科学技术基金黔科合J字2325 黔西南州科技局科技计划2013-4 

出 版 物：《河南师范大学学报（自然科学版）》 (Journal of Henan Normal University(Natural Science Edition))

年 卷 期：2014年第42卷第1期

页      码：36-40页

摘      要：基于基尔霍夫定律,利用砷化镓(GaAs)半导体激光器作为标准光源设计了一种反射式光谱发射率测量装置.使用该装置在300K至873K之间对Al5052的光谱发射率进行了系统的研究,并利用最小二乘法对测量数据进行了线性拟合.研究结果表明:Al5052的光谱发射率随着温度的升高而缓慢增大.通过对673K,773K,823K,873K4个温度点持续5h的恒温测量发现:当温度小于823K时,Al5052的光谱发射率非常稳定,随着时间的增加基本保持不变;当温度大于823K时,在开始的2h内,光谱发射率随着时间的增加而增大.2h之后,由于表面氧化达到一定程度,光谱发射率数值开始趋于稳定.

主 题 词：Al5052 光谱发射率 温度 加热时间 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.16366/j.cnki.1000-2367.2014.01.007

馆 藏 号：203130401...