基于模型的光学校正系统的设计与实现

作     者：王国雄 严晓浪 史峥 陈志锦 

作者机构：浙江大学超大规模集成电路设计研究所浙江杭州310027 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60176015) 

出 版 物：《浙江大学学报（工学版）》 (Journal of Zhejiang University：Engineering Science)

年 卷 期：2004年第38卷第5期

页      码：521-524,548页

摘      要：为了使光刻结果更好地符合版图设计,保证在硅片上制造出的电路在功能上与设计电路一致,提出了一种对掩模进行自动补偿的系统性技术.根据光刻机和光刻胶特性,模拟了实际的光刻过程.校正处理的核心是基于模型的掩模图形优化模块,通过调用光刻模拟器直接对输入待校正的掩模图形进行优化.最后通过对掩模版图的验证,保证校正后的掩模图形满足成像图形的精度要求.应用实例证明,该系统准确实现了版图的精确设计与校正.

主 题 词：光刻模拟 光学邻近校正 移相掩模 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3785/j.issn.1008-973X.2004.05.001

馆 藏 号：203130559...