亚100纳米级标准单元的可制造性设计

作     者：张培勇 严晓浪 史峥 高根生 马玥 陈晔 ZHANG Pei-yong;YAN Xiao-lang;SHI Zheng;GAO Gen-sheng;MA Yue;CHEN Ye

作者机构：浙江大学超大规模集成电路设计研究所浙江杭州310027 

基　　金：国家自然科学基金 (No .60 1 760 1 5 No .90 2 0 70 0 2 ) 863高技术计划 (No .2 0 0 2AA1Z1 4 60 No.2 0 0 3AA1Z1 370 ) 

出 版 物：《电子学报》 (Acta Electronica Sinica)

年 卷 期：2005年第33卷第2期

页      码：304-307页

摘      要：本文介绍了亚 10 0纳米工艺可制造性验证的一组工艺仿真和错误定位技术 ,制定了标准单元可制造性设计 (DFM ,DesignForManufacturability)的流程 ,重点讨论了在亚 10 0纳米工艺条件下标准单元设计中遇到的一些典型可制造性问题 ,提出了相应的新设计规则和解决方案 .依靠以上DFM技术方法 ,完成了实际 90nm工艺标准单元可制造性设计工作 .

主 题 词：标准单元 可制造性设计 分辨率增强技术 

学科分类：080903[080903] 0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:0372-2112.2005.02.027

馆 藏 号：203130917...