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深亚微米工艺趋势与电子设计自动化技术

深亚微米工艺趋势与电子设计自动化技术

作     者:杨华中 汪蕙 刘润生 范崇治 

作者机构:清华大学电子工程系 

基  金:清华大学青年科学研究基金 高等学校博士点专项基金 

出 版 物:《电子学报》 (Acta Electronica Sinica)

年 卷 期:1996年第24卷第11期

页      码:73-79页

摘      要:深亚微米工艺的日趋成熟为电子设计自动化(EDA)提供了空前广阔的空间,也使之面临许多崭新的课题,其中,最引人注目的是快速电路模拟技术和互连问题,本文综述了这些领域的最新成就,并提出了EDA领域中若干亟待解决的课题。

主 题 词:电子设计自动化 互连 集成电路 深亚微米工艺 

学科分类:080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

核心收录:

馆 藏 号:203131928...

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