热处理对氧化铈粉体3～5μm波段红外发射率的影响

作     者：蒋勇 徐国跃 郭腾超 李泉灵 秦锐 JIANG Yong;XU Guo-yue;GUO Teng-chao;LI Quan-ling;QIN Rui

作者机构：南京航空航天大学材料科学与技术学院江苏南京211100 

基　　金：国防科研计划项目 国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(编号:xxxxx03zt2-06-ZZT2) 国家自然科学基金资助项目(编号:90505008) 航空基金项目(编号:2009ZA52013) 南京航空航天大学专项科研基金(编号:1006-56XHA09002) 

出 版 物：《红外技术》 (Infrared Technology)

年 卷 期：2011年第33卷第12期

页      码：699-703页

摘      要：在600℃以内,氧化铈粉体在3～5μm波段的红外发射率随着测试温度的升高而降低。通过设计关于热处理的正交实验和单因素实验,发现采用以4℃/min的升温速率升至1300℃保温4h后,氧化铈粉体在常温下的发射率最低,可降至0.37;测试温度升至600℃时,发射率则可降至0.3,可以考虑作为发动机用红外低发射率耐高温涂层的填料。通过XRD、SEM等表征手段,分析了热处理引起发射率变化的原因。

主 题 词：氧化铈 热处理 红外发射率 正交实验 

学科分类：11[军事学] 080904[080904] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 110503[110503] 0810[工学-土木类] 1105[1105] 1104[1104] 082601[082601] 081105[081105] 0826[工学-生物医学工程类] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 081001[081001] 081002[081002] 0811[工学-水利类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-8891.2011.12.005

馆 藏 号：203134037...