超表面光场成像研究现状及展望(特邀)

作     者：金欣 龙振威 曾云辉 Jin Xin;Long Zhenwei;Zeng Yunhui

作者机构：清华大学深圳国际研究生院广东深圳518055 鹏城实验室广东深圳518055 

基　　金：国家自然科学基金(62131011) 深圳市技术攻关重点项目(JSGG20220831095602005) 鹏城实验室重大攻关项目(PCL2023A10-3) 

出 版 物：《激光与光电子学进展》 (Laser & Optoelectronics Progress)

年 卷 期：2024年第61卷第16期

页      码：91-115页

摘      要：光场成像由于其快速记录光线方向、深度的体成像能力,在生命观测、工业检测等领域具有重要的科学意义和应用前景。超表面光场成像技术将超表面技术与光场成像技术有机结合,为实现更高性能、更轻便和更多样化的光场调控与感知提供了全新的路径和方法。本文简要综述了超表面光场成像技术的发展,根据超表面实现功能与参数设计的方法差异,将现有工作分为基于物理机理推演、基于逆向设计和基于端到端设计三类。基于物理机理推演的方法又依据所优化的光场成像性能,分解为分辨率优化、扩大视场、增加景深、深度感知等方面的性能突破。通过实验对比端到端设计与多种基于物理机理推演的设计方案在考虑景深的彩色成像时性能差异,展示了端到端设计的优势与潜力。最后探讨了超表面光场成像在端到端设计方法、高性能光场捕获、微型集成化系统三个方面所面临的技术难点,展望了超表面光场成像的发展方向。

主 题 词：光场成像 超表面光场成像 端到端设计 光场感知 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/LOP241399

馆 藏 号：203134892...