基体表面状态对直流磁控溅射铬膜附着性的影响

作     者：范洪远 李伟 沈保罗 唐正华 向文欣 应诗浩 FAN Hongyuan1, LI Wei1, SHEN Baoluo1, TANG Zhenghua1,XIANG Wenxin2,YING Shihao2(1.School of Manufacturing Sci.and Eng., Sichuan Univ., Chengdu 610065, China;2.The Nuclear Power Inst. of China, Chengdu 610041,China)

作者机构：四川大学制造学院四川成都610065 中国核动力研究设计院四川成都610041 

基　　金：武器装备预研基金资助项目(51481080101SC0101) 

出 版 物：《四川大学学报（工程科学版）》 (Journal of Sichuan University (Engineering Science Edition))

年 卷 期：2003年第35卷第2期

页      码：77-79页

摘      要：在锆合金基体上制备直流磁控溅射铬膜,研究了基体宏观粗糙度、膜层沉积前的离子轰击对膜/基附着性的影响,以探讨利用铬膜改善锆合金耐蚀性的可能性。实验中,使用扫描电镜(SEM)观察了界面形貌及Zr、Cr的界面分布,用划痕法测定了铬膜的附着性,结果表明:锆/铬界面结合良好,边界清晰,成分升降区依界面形貌不同而有差异;实验获得的铬膜附着性均超过20N;在本文条件下,机械锁紧力对附着性有重要影响;基体宏观粗糙度的增加对附着性无明显影响,但表面轻微粗化有利于膜的附着性;溅射前的基体离子轰击有利于提高铬膜与基体的附着力,但轰击时间过长并无意义。

主 题 词：基体表面状态 直流磁控溅射 铬膜 锆合金 附着性 

学科分类：080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1009-3087.2003.02.019

馆 藏 号：203139760...