近场扫描光子显微镜尖端制作的正交设计

作     者：戴琳 梁浩雁 戴宏 

作者机构：云南工业大学昆明650051 云南大学昆明650091 

出 版 物：《云南工业大学学报》 (Journal of Yunnan Polytechnic University)

年 卷 期：1999年第15卷第3期

页      码：72-74,78页

摘      要：利用正交设计试验方法，找到了利用化学腐蚀法制作近场扫描光子显微镜尖端的主要影响因素及各因素的最佳组合水平状态，利用正交设计试验所得结果， 可制得曲率半径小于１２０ｎｍ 的尖端．

主 题 词：正交设计 尖端 化学腐蚀法 近场光子显微镜 

学科分类：08[工学] 0803[工学-仪器类] 

馆 藏 号：203141028...