均匀设计法在去钻污工艺优化中的应用

作     者：薛卫东 何为 王守绪 陈兆霞 张敏 陈浪 何波 万永东 XUE Wei-dong;HE Wei;WANG Shou-xu;CHEN Zhao-xia;ZHANG Min;CHEN Liang;HE Bo;WAN Yong-dong

作者机构：电子科技大学微电子与固体电子学院成都610054 珠海元盛电子科技股份有限公司技术中心广东珠海519060 

基　　金：四川省科技支撑项目(2009GZ0013) 

出 版 物：《实验科学与技术》 (Experiment Science and Technology)

年 卷 期：2010年第8卷第2期

页      码：39-42页

摘      要：运用实验设计方法对等离子清洗挠性印制线路板去钻污工艺参数进行了优化。结果表明,用均匀设计法进行试验,仅需试验12次便可获得实验结果,通过非回归分析即可得到凹蚀量y(μm)与CF4含量、射频功率、真空度、温度、时间等因素的回归方程。其方程具有很好的拟合度,并取得了良好的清洗效果,为后续工序得到合格的金属化孔提供了保证。

主 题 词：均匀设计 回归分析 等离子体 去钻污 

学科分类：080903[080903] 02[经济学] 0202[经济学-财政学类] 020208[020208] 07[理学] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 0714[0714] 070103[070103] 0701[理学-数学类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1672-4550.2010.02.014

馆 藏 号：203141867...