基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究

作     者：阮日新 罗虎 王永强 陈逢军 胡天 尹韶辉 RUAN Ri-xing;LUO Hu;WANG Yong-qiang;CHENG Feng-j un;HU Tian;YIN Shao-hui

作者机构：湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心湖南长沙410082 长沙纳美特超精密制造技术有限公司湖南长沙410082 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51205120) 国际科技合作项目(2012DFG70640) 

出 版 物：《湖南大学学报（自然科学版）》 (Journal of Hunan University:Natural Sciences)

年 卷 期：2016年第43卷第4期

页      码：31-37页

摘      要：磁力抛光多数以单面抛光为主,较少有双面同时有效抛光方式.本文提出了基于环形磁场励磁的磁力抛光新工艺,该方法可以同时有效抛光两个表面.通过设计能励磁环形磁场的电磁铁,并进行三维有限元仿真分析,搭建了环形磁场双面抛光装置.利用该平台进行不锈钢两面抛光工艺试验研究,探讨了电流强度、磁极与工件间间隙、主轴转速和抛光时间工艺等参数对表面粗糙度R_a的影响.得出表面粗糙度R_a随着抛光时间、工作间隙、工件转速的增大而减小.设计正交实验方案得出合理的两面磁力抛光工艺参数,并最终取得了具有良好表面粗糙度R_a的两面工件样品.试验证明,该方法可以同时对工件的两个表面进行抛光,两个表面的表面粗糙度R_a由最初0.2μm下降到R_a(S)=0.094μm和R_a(N)=0.068μm.

主 题 词：磁力研磨 环形磁场 两面抛光 磁场仿真 

学科分类：12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程类] 08[工学] 0802[工学-机械学] 080201[080201] 

核心收录：

D　O　I：10.16339/j.cnki.hdxbzkb.2016.04.005

馆 藏 号：203144331...