NiCr薄膜微加热器在低温环境下的电学特性研究

作     者：吴婷婷 刘景全 江水东 徐斌 郭杰 杨斌 WU Ting-ting;LIU Jing-quan;JIANG Shui-dong;XU Bin;GUO Jie;YANG Bin

作者机构：上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51035005 61076107) 上海市科委重点资助项目(13511500200 11JC1405700) 无锡研究院交大专项资金资助项目(2011JDZX017) 

出 版 物：《传感器与微系统》 (Transducer and Microsystem Technologies)

年 卷 期：2014年第33卷第9期

页      码：38-41页

摘      要：设计了一种适用于深低温环境的微型加热器。使用AC磁控溅射技术将NiCr(80/20 at.%)合金沉积到SiO2/Si基底上,并采用微加工工艺实现薄膜图形化,作为加热器的加热元件。研究了NiCr薄膜的电学性能和晶体结构与退火条件之间的关系。实验表明:在450℃氮气环境下退火30min,可以获得深低温性能优良的NiCr加热器。该加热器在20K时的电阻温度系数(TCR)为80.80×10-6/K。X射线衍射(XRD)分析显示NiCr薄膜在450℃氮气环境下退火后,薄膜的结晶度增大,因此,退火条件对薄膜的电阻率和电阻温度系数有较大的影响。

主 题 词：微型加热器 MEMS 镍铬合金 深低温 退火处理 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

核心收录：

D　O　I：10.13873/J.1000-9787(2014)09-0038-04

馆 藏 号：203145808...