激光直写系统中的对准技术应用研究

作     者：邱传凯 杜春雷 白临波 周崇喜 

作者机构：中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 

基　　金：微细加工光学技术国家重点实验室基金 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：1997年第24卷第S1期

页      码：98-103页

摘      要：基于ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统原有基片的多图形对准方法，针对衍射光学元件（ＤＯＥ）图形的特点，通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验，产生了一套适于ＤＯＥ图形套刻的对准方案。其对准误差小，达到了系统规定指标。并实验研制出了１６位相台阶的ＤＯＥ，取得了良好的效果。

主 题 词：衍射光学元件 激光光刻机 激光直写 精密定位 对准精度 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

馆 藏 号：203146511...