一种新型的激光——等离子体辅助化学气相沉积装置的研究

作     者：陆宗仪 李文梅 安世民 郭宝海 夏元良 徐军 梅雨 

作者机构：扬州大学工学院 大连理工大学 

基　　金：国家自然科学基金 

出 版 物：《材料科学与工艺》 (Materials Science and Technology)

年 卷 期：1997年第5卷第1期

页      码：90-94页

摘      要：为探索用激光和等离子体共同辅助化学气相沉积（ＣＶＤ）过程以实现室温沉积的可能性，设计并制造了一种新型的ＣＶＤ装置，实际进行了由ＳｉＨ４－ＮＨ３－Ｎ２体系制取Ｓｉ３Ｎ４膜的试验。结果表明，激光和等离子体是可以相互促进、共同辅助ＣＶＤ过程的，且两者均处于较低的能量水平；整个沉积过程在室温下进行，仅在试样表面局部区域有升温，从而可以实现保持基体原有性能的沉积和选区沉积，拓宽ＣＶＤ的应用前景。

主 题 词：化学气相沉积 激光 等离子体 氮化硅膜 

学科分类：080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

馆 藏 号：203147570...