最优实验条件下碳纳米管膜的场发射特性

作     者：樊志琴 蔡根旺 李瑞 黄浩 张君德 王建星 康广生 FAN Zhi-qin;CAI Gen-wang;LI Rui;HUANG Hao;ZHANG Jun-de;WANG Jian-xing;KANG Guang-sheng

作者机构：河南工业大学理学院河南郑州450001 

基　　金：河南省教育厅自然科学基金资助项目(2008B140004) 

出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)

年 卷 期：2010年第41卷第A2期

页      码：229-231页

摘      要：利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过正交设计方法综合研究了反应温度、气压、沉积时间、甲烷流量对碳纳米管膜场发射性能的影响。结果表明,不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,其中起主要作用的是反应温度和气压。保持氢气的流量(100mL/min)不变,温度为700～800℃时,反应室压强为6.5kPa时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8V/μm,发射点分布密集、均匀。

主 题 词：正交设计方法 碳纳米管 MPCVD 场发射 拉曼光谱 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

馆 藏 号：203148902...