羟基氧化镍电极制作工艺的研究

作     者：姬忠涛 张正富 JI Zhong-tao;ZHANG Zheng-fu

作者机构：昆明理工大学材料与冶金工程学院云南昆明650093 

基　　金：云南省高等学校教学 科研带头人培养项目资助 昆明理工大学校基金项目资助 

出 版 物：《云南大学学报（自然科学版）》 (Journal of Yunnan University(Natural Sciences Edition))

年 卷 期：2007年第29卷第5期

页      码：477-479,495页

摘      要：首先通过单因素实验研究了CMC及石墨粉的质量分数、冷压机压强各自对NiOOH电极性能的影响.然后根据单因素实验设计出正交实验,并用极差法分析了各工艺因素对NiOOH电极性能影响的显著性.其中研究CMC的质量分数对电极性能的影响归根结底是研究CMC的量对电极性能的影响.通过观察以及用极差法进行综合分析均表明:制作性能优良的NiOOH电极的最佳工艺条件为石墨粉的质量分数为25%、冷压机压强为16 MPa、CMC的质量分数为0.8%.各工艺因素对NiOOH电极性能影响的显著性顺序为冷压机压强>CMC的质量分数>石墨粉的质量分数.

主 题 词：NiOOH电极 制备工艺 正交实验 

学科分类：081704[081704] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:0258-7971.2007.05.009

馆 藏 号：203150096...