消除数字光刻像素栅格衍射影响的研究

作     者：郭小伟 杜惊雷 陈铭勇 杜春雷 GUO Xiao-wei;DU Jing-lei;CHEN Ming-yong;DU Chun-lei

作者机构：四川大学物理学院成都610064 中国科学院光电技术研究所成都610209 

基　　金：国家自然科学基金(60376021) 微细加工国家重点实验基金资助 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2007年第36卷第3期

页      码：462-466页

摘      要：提出用优化成像系统设计参量的方法有效消除基于数字微镜阵列的栅格结构及其衍射对微结构成像质量的影响．模拟结果表明，当照明光源的波长为0．365μm，系统的数值孔径为0．3左右，缩小倍率为10-20×时，栅格像的可见度在0．1以下，DMD的栅格结构对成像质量的影响大幅降低；对微透镜的成像分析发现，合理的成像系统结构参量能有效地减少栅格的影响．如果结合DMD显示图形的可编程特点，优化图形的结构或灰度，则能在像面获得较理想的曝光量分布，达到快速加工二维和三维微结构的目的．实验结果证实了优化系统参量可有效消除DMD栅格的影响．

主 题 词：数字光刻 像素栅格 优化系统参量 成像质量 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

馆 藏 号：203151623...