底面对准曝光机对准系统设计

作     者：严伟 王肇志 姚汉明 胡松 

作者机构：中国科学院光电技术研究所四川成都610206 

出 版 物：《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期：2002年第39卷第10期

页      码：40-44页

摘      要：微电子技术的不断发展,对光刻设备精度的要求越来越高,特别是在一些特殊器件的制作领域,要求基片多次曝光后必须达到较高的套刻精度。目前国内外有多种比较成熟的对准技术来满足这一要求,其中底面对准技术作为非常有效的一种而倍受青睐。根据底面对准曝光基本原理,论述了底面对准系统的设计与实现,分析了该系统各个功能块,并详细地介绍了图像处理技术在底面对准中的应用。实测表明,在底面对准曝光机中,该系统运行状况良好。

主 题 词：对准系统 底面对准 灰度查找表 曝光 微电子技术 光刻设备 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1671-4776.2002.10.009

馆 藏 号：203151684...