射频辉光放电等离子体化学气相沉积类金刚石膜的性能研究

作     者：陈灵 刘正义 邱万奇 黄元盛 刘铁林 欧阳光胜 

作者机构：华南理工大学机械工程学院广州510640 深圳市雷地科技实业有限公司深圳518048 

基　　金：国家教委博士点基金资助项目 (No.19990 5 612 1) 广东省自然科学基金资助项目 (No.990 5 48) 

出 版 物：《真空科学与技术》 (Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2002年第22卷第5期

页      码：379-381页

摘      要：用自行设计的RF PCVD(射频辉光放电等离子体化学气相沉积 )设备沉积类金刚石膜 ,并对膜的力学、光学、化学性能进行了分析。表明用该设备制备的类金刚石膜具有显微硬度高、磨擦系数小、膜基结合力高、对红外有良好的增透性 ,并且耐磨耐蚀、化学稳定性好。

主 题 词：射频辉光放电等离子体 化学气相沉积 类金刚石膜 制备 力学性能 光学性能 化学性能 

学科分类：07[理学] 08[工学] 070205[070205] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1672-7126.2002.05.013

馆 藏 号：203151700...