杂光对三线阵相机光学系统成像的影响

作     者：田铁印 王红 吴国栋 TIAN Tie-yin;WANG Hong;WU Guo-dong

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室吉林长春130033 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.60507003) 

出 版 物：《液晶与显示》 (Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays)

年 卷 期：2012年第27卷第6期

页      码：847-851页

摘      要：针对高成像质量三线阵测绘相机杂光导致相机成像质量下降的问题,文章根据光学系统的设计结果,对相机的杂光系数进行分析与计算,提出合理的杂光抑制措施;利用ZEMAX软件和LightTools软件,分析了杂光对三线阵立体测绘相机成像的影响,通过模拟计算得到杂光系数小于5%的理论结果;实验检测了相机实际杂光系数,得到最大杂光系数小于6%的实测结果,模拟了杂光影响下的光学系统图像,证明了杂光抑制措施的有效性和杂光影响下成像分析的合理性。

主 题 词：三线阵 测绘相机 模拟成像 杂光分析 

学科分类：0810[工学-土木类] 08[工学] 081001[081001] 

D　O　I：10.3788/yjyxs20122706.0847

馆 藏 号：203152644...