蓝宝石衬底表面的高精密加工工艺

作     者：牛新环 檀柏梅 赵晓宏 刘玉岭 Niu Xinhuan;Tan Baimei;Zhao Xiaohong;Liu Yuling

作者机构：河北工业大学信息工程学院微电子研究所天津300130 河北工业大学信息工程学院微电子研究所天津300130 河北工业大学信息工程学院微电子研究所天津300130 河北工业大学信息工程学院微电子研究所天津300130 

基　　金：天津市自然科学基金(批准号:043801211) 高等学校博士学科点专项科研基金(批准号:20050080007)和国家自然科学基金(批准号:10676008)资助项目Project supported by the Tianjin Natural Science Foundation (No. 043801211) the Specialized Research Fund for the Doctoral Program of Higher Education of China (No. 20050080007) and the National Natural Science Foundation of China (No. 10676008) 

出 版 物：《Journal of Semiconductors》 (半导体学报（英文版）)

年 卷 期：2007年第28卷第Z1期

页      码：48-51页

摘      要：为了获得优化的CMP参数变化,对实验进行了设计,并采用CMP方法在C6382I-W/YJ单面抛光机上对蓝宝石衬底表面进行了加工.根据蓝宝石衬底特性,选择了碱性抛光液,并选用SiO2胶体作为磨料.依据高去除的目的,对如底盘转速、抛光液流量、温度及压力等不同工艺参数进行了研究.根据实验结果,确定了蓝宝石衬底表面的CMP最佳工艺参数.

主 题 词：蓝宝石衬底 高精密加工 化学机械抛光 碱性抛光液 工艺 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:0253-4177.2007.z1.011

馆 藏 号：203153022...