用于薄膜厚度均匀性监测的^(147)Pm-β源设计

作     者：张洁 徐家云 陈秀莲 王芳娜 ZHANG Jie;XU Jia-yun;CHEN Xiu-lian;WANG Fang-na

作者机构：四川大学物理科学与技术学院成都610064 

出 版 物：《核电子学与探测技术》 (Nuclear Electronics & Detection Technology)

年 卷 期：2013年第33卷第2期

页      码：202-206页

摘      要：β射线束已被广泛用于工业上纸张、铝箔等薄膜生产中厚度均匀性的在线监测,为提高监测的精细程度和准确度,需要用束斑小、强度高、含韧致辐射少的β粒子束。对此,采用蒙特卡罗EGS5程序,对147Pm-β源的结构和尺寸进行了优化模拟计算设计。在将源结构设计成由内向外依次为147Pm-β源、铝和铅屏蔽层的情况下,模拟计算结果表明:对一定横截面积的147Pm-β源芯,β束流强度随源芯厚度增加而增大,在厚度为25 mg/cm2时达到饱和;穿出β源屏蔽体的韧致辐射强度随铝和铅屏蔽层的增厚减小,当铝和铅层厚度分别大于0.3 mm和0.8 mm时,辐射强度为最小。

主 题 词：147Pm-β放射源 薄膜厚度均匀性测量 蒙特卡罗计算 

学科分类：082703[082703] 0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 0804[工学-材料学] 0827[工学-食品科学与工程类] 0703[理学-化学类] 1009[医学-法医学类] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.0258-0934.2013.02.019

馆 藏 号：203153418...