对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析

作     者：王国荃 罗腾蛟 陈福余 徐志如 

作者机构：中国科学院上海冶金研究所200050 

出 版 物：《微细加工技术》 (Microfabrication Technology)

年 卷 期：1992年第1期

页      码：1-6页

摘      要：本文通过对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析,阐明设计图经计算机辅助设计系统数字化后,生成PG格式数据,再由PG格式数据转换成电子束格式数据的处理;论述了光栅扫描的原理及特点;介绍了图形发生器的作用及电子束在控制系统作用下在基片上描绘图形的过程。

主 题 词：电子束 曝光机 掩模 CAD 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

馆 藏 号：203153602...