直流磁控溅射法制备TiO_2薄膜实验研究

作     者：蒋国林 

作者机构：长沙有色冶金设计研究院有限公司 

出 版 物：《有色金属文摘》 (Nonferrous Metals Abstract)

年 卷 期：2015年第30卷第4期

页      码：86-87页

摘      要：本文利用直流磁控溅射法在不同条件下制备玻璃基Ti O2薄膜样品,并检测了薄膜的超亲水性。研究了沉积条件例如溅射总气压,氧气和氩气的相对分压,溅射功率,基片温度和后续热处理对Ti O2薄膜最佳性能的影响。实验结果显示：在较低温度下沉积的Ti O2薄膜是无定型且亲水性较差,然而,在400~500℃范围内退火过后,薄膜表面呈现超亲水性能。

主 题 词：直流磁控溅射 TiO2薄膜 退火温度 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.19534/j.cnki.zyxxygc.2015.04.047

馆 藏 号：203155065...