一种大入射角容差宽带薄膜偏振器

作     者：刘永利 张锦龙 王占山 Liu Yongli;Zhang Jinlong;Wang Zhanshan

作者机构：先进微结构材料教育部重点实验室(同济大学)上海200092 同济大学精密光学工程技术研究所上海200092 

基　　金：国家自然科学基金项目(61008030 61108014 61205124) 国家高技术发展计划项目 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2014年第26卷第5期

页      码：130-135页

摘      要：通过组合长波通和短波通膜堆的方法,设计并制备了一种大入射角容差宽带薄膜偏振器。该薄膜为HfO_2/SiO_2结构,采用无离子束辅助的电子束蒸发工艺,蒸发金属铪和SiO_2制得。对该膜的透射率光谱、激光损伤阈值和形貌进行了研究,结果显示其不仅在1044~1084 nm波段内都具有很高的对比度,而且在1064 nm波长、53°~60°的入射角范围内具有很大的消光比和激光损伤阈值,且损伤特性基本不随入射角变化。该偏振器的P光损伤阈值约为20 J/cm^2,损伤主要由基板与薄膜界面处的纳米级缺陷所引起;S光损伤阈值约为45 J/cm^2,损伤主要由激光辐照下薄膜表面的等离子烧蚀现象引起。

主 题 词：薄膜偏振器 入射角 电子束蒸发 激光损伤阈值 损伤形貌 

学科分类：0808[工学-自动化类] 080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.11884/hplpb201426.052003

馆 藏 号：203156537...