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垂直布里奇曼法生长氧化镓单晶及其性能表征

垂直布里奇曼法生长氧化镓单晶及其性能表征

作     者:黄东阳 黄浩天 潘明艳 徐子骞 贾宁 齐红基 HUANG Dongyang;HUANG Haotian;PAN Mingyan;XU Ziqian;JIA Ning;QI Hongji

作者机构:杭州富加镓业科技有限公司杭州311421 中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 

基  金:国家重点研发计划(2022YFB3605502) 

出 版 物:《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期:2025年第54卷第2期

页      码:190-196页

摘      要:本文采用自主设计的垂直布里奇曼(VB)炉,通过动态模拟与实验深度耦合迭代优化的方法,建立了生长炉模型,通过优化生长炉的温场得到最佳温场,并根据模拟最佳温场对实际温场进行优化改造,成功生长出直径3英寸(1英寸=2.54 cm)的氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))单晶。进一步加工得到最大尺寸为直径2.5英寸的(100)面β-Ga_(2)O_(3)晶圆,并对β-Ga_(2)O_(3)晶体的结晶质量和光学性能进行了表征测试。测试结果表明,β-Ga_(2)O_(3)晶体具有较高结晶质量,其紫外截止边为257.5 nm,对应光学带隙为4.78 eV,晶体的劳埃衍射斑点清晰、对称,摇摆曲线半峰全宽(FWHM)最小为39.6″。

主 题 词:β-Ga_(2)O_(3) 垂直布里奇曼法 晶体生长 高结晶质量 宽禁带半导体 

学科分类:07[理学] 070205[070205] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

D O I:10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2024.0301

馆 藏 号:203156570...

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