立式雾化辅助CVD系统的设计与实现

作     者：赵丹 向星承 詹宇 陈茵豪 秦源涛 肖黎 龚恒翔 Zhao Dan;Xiang Xingcheng;Zhan Yu;Chen Yinhao;Qin Yuantao;Xiao Li;Gong Hengxiang

作者机构：重庆理工大学理学院重庆400054 龙泰洋健(重庆)医疗科技有限公司重庆400054 

基　　金：重庆理工大学研究生创新项目(gzlcx20233326) 

出 版 物：《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期：2025年第62卷第1期

页      码：152-157页

摘      要：雾化辅助化学气相沉积(CVD)技术是一种高质量氧化物薄膜的低成本制备方法。设计并搭建了一套立式雾化辅助CVD系统,该系统包含了雾化源、立式反应腔体、加热、水冷和尾气处理模块。采用该系统制备了SnO_(2)薄膜,采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜样品进行分析,并用扫描电子显微镜(SEM)观察样品表面形貌。实验结果表明:采用所设计的立式雾化辅助CVD系统制备出了沿(200)晶面生长的SnO_(2)薄膜,其(200)衍射峰半高宽为0.22°。SnO_(2)薄膜表面较大的晶粒呈现类金字塔状,薄膜表面颗粒尺寸较为均匀。通过计算得出薄膜表面最大颗粒平均粒径为145 nm。所设计的系统结构合理、操作简单,制备的薄膜具有较高的质量。

主 题 词：雾化辅助化学气相沉积(CVD) 薄膜沉积系统设计 立式腔体 SnO_(2)薄膜 结构与形貌 

学科分类：08[工学] 0802[工学-机械学] 

D　O　I：10.13250/j.cnki.wndz.25010504

馆 藏 号：203156838...