真空镀膜工艺中机械设计的关键技术分析

作     者：朱成 

作者机构：伟丰(天津)科技发展有限公司天津300400 

出 版 物：《中国科技期刊数据库 工业A》 

年 卷 期：2025年第1期

页      码：061-063页

摘      要：真空镀膜工艺广泛应用于光学、微电子等领域,而机械设计是保证镀膜质量和效率的关键。然而,高真空环境、精密运动控制等因素给机械设计带来诸多挑战。本文以真空镀膜设备为研究对象,深入分析了真空腔体、基片传输、蒸发源等关键部件的设计难点,提出了材料选择、密封技术、传动方案等优化设计方法。通过对比分析磁控溅射、电子束蒸发等典型设备的机械设计实例,本文为真空镀膜机械设计提供了系统性的解决方案,对推动真空镀膜工艺的发展具有重要意义。

主 题 词：真空镀膜 机械设计 真空腔体 蒸发源 精密运动控制 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

馆 藏 号：203157317...