看过本文的还看了

正在加载...

相关文献

正在加载...

该作者的其他文献

正在加载...
文献详情 >集成电路芯片生产过程中的含砷废水零排放工艺研究 收藏
集成电路芯片生产过程中的含砷废水零排放工艺研究

集成电路芯片生产过程中的含砷废水零排放工艺研究

作     者:张绍修 沈燕 Zhang Shaoxiu;Shen Yan

作者机构:信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司四川610031 

出 版 物:《环境与发展》 (Environment & Development)

年 卷 期:2014年第26卷第5期

页      码:74-78页

摘      要:针对中西部电子产业转移企业中涉及的砷污染及总量指标来源问题,以第二代半导体集成电路芯片生产企业为例,介绍了芯片生产过程中含砷废水的产生来源,分析了含砷废水零排放处理工艺流程及处理效果,说明了工艺的技术可行性,指出了零排放是解决总量指标来源的有效途径,同时,探讨了零排放工艺应注意的问题,供相关企业单位参考。

主 题 词:电子产业转移 芯片生产 含砷废水 零排放 

学科分类:083002[083002] 0830[工学-生物工程类] 08[工学] 

D O I:10.3969/j.issn.1007-0370.2014.05.017

馆 藏 号:203159735...

读者评论 与其他读者分享你的观点

正在加载...
用户名:未登录
我的评分 12345