高纯铜溅射靶材的发展及现状

作     者：禹泽海 孙鹏 汪春平 杨艳 YU Zehai;SUN Peng;WANG Chunping;YANG Yan

作者机构：金川镍钴研究设计院甘肃金昌731000 

出 版 物：《山西冶金》 (Shanxi Metallurgy)

年 卷 期：2007年第30卷第5期

页      码：4-6页

摘      要：简要介绍了高纯铜溅射靶材目前的市场情况、现状、应用领域和未来高纯铜溅射靶材发展趋势;并对高纯铜溅射靶材的特性要求以及微观组织控制做了简单的阐述。

主 题 词：高纯铜 溅射靶材 现状 发展趋势 

学科分类：08[工学] 080502[080502] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1672-1152.2007.05.002

馆 藏 号：203160858...