硅四端型膜片式压力传感器的优化设计与分析

作     者：李乃平 刘三清 应建华 

作者机构：华中理工大学固体电子学系 

基　　金：国家自然科学基金赞助课题 

出 版 物：《华中理工大学学报》 (Journal of Huazhong University of Science and Technology)

年 卷 期：1989年第17卷第3期

页      码：63-69页

摘      要：本文从理论上分析了硅剪切压阻系数的择优取向,以及在矩形、方形和圆形弹性膜片上欲获得较大剪应力,电阻条的布局原则。利用本文提供的方法,对某些膜片上的四端应变电阻所进行的布局分析与Kanda用有限差分法计算出来的布局结果基本一致。文中还提出了膜片上一些新的布局,供设计者选用。

主 题 词：硅四端型 膜片式 压力传感器 

学科分类：080202[080202] 08[工学] 0802[工学-机械学] 

核心收录：

D　O　I：10.13245/j.hust.1989.03.011

馆 藏 号：203161242...