8.0nm反射式偏振膜的设计和制备

作     者：吕超 易葵 邵建达 L(U) Chao;YI Kui;SHAO Jian-da

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心上海201800 

基　　金：国家863高技术研究发展计划(2005AA847033)资助 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2007年第36卷第11期

页      码：2049-2052页

摘      要：讨论了软X射线反射式偏振膜的设计原理和方法,利用设计软件模拟设计了8.0nm处的Mo/B4C偏振膜.对影响多层膜性能的参量进行了详细的误差分析.利用磁控溅射镀膜机进行了偏振膜的制备研究,X射线小角衍射测量了多层膜的周期厚度,测量数据的拟合结果与设计值吻合很好.

主 题 词：多层膜 软X射线 偏振 准布儒斯特角 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203163162...