基于精简标准单元库的OPC复用技术

作     者：焦海龙 陈岚 李志刚 杨清华 叶甜春 Jiao Hailong;Chen Lan;Li Zhigang;Yang Qinghua;Ye Tianchun

作者机构：中国科学院微电子研究所共性技术研究室北京100029 

出 版 物：《Journal of Semiconductors》 (半导体学报（英文版）)

年 卷 期：2008年第29卷第5期

页      码：1016-1021页

摘      要：提出了一种对标准单元的光学邻近效应校正结果进行复用的方法,并通过将传统标准单元中的所有核心逻辑通过反相器和二选一多路选择器的组合来实现,得到了一套可制造性强的精简标准单元库,从而使OPC复用技术得以有效实施,并将在很大程度上提高芯片生产效率和降低掩模数据存储量.精简标准单元库中单元的电气仿真结果表明其在面积、速度、功耗方面与传统标准单元库相比性能损失很小.

主 题 词：精简标准单元库 OPC复用 可制造性设计 电气仿真 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:0253-4177.2008.05.041

馆 藏 号：203163297...