Si衬底表面圆柱形抗反射周期微结构的设计及制作

作     者：董亭亭 付跃刚 陈驰 张磊 马辰昊 赵玄 Dong Tingting;Fu Yuegang;Chen Chi;Zhang Lei;Ma Chenhao;Zhao Xuan

作者机构：长春理工大学光电工程学院长春吉林130022 华中光电技术研究所-武汉光电国家实验室武汉湖北430223 

基　　金：国家自然科学基金(61108044) 吉林省自然科研基金(20150101038JC) 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2016年第45卷第6期

页      码：235-240页

摘      要：应用严格耦合波分析方法(RCWA),在本征硅片衬底表面设计并制作了一种圆柱形抗反射微结构元件。通过MATLAB软件模拟仿真确定其最优参数组合,使反射率设计值为3%。应用二元曝光技术和反应离子刻蚀技术制作了单面和双面的圆柱形微结构,根据结果得到射频功率、气体流量及工作气压对微结构侧壁陡直度及形貌具有很大影响。还分析比较了形状(t为实际柱顶面直径与底面直径之比)与反射率的关系。采用热场发射扫描电子显微镜对该结构进行形貌表征,综合显微成像红外光谱仪对反射率进行测量。实验结果:制作了单面、双面微结构与无结构本征硅片反射率做比较双面圆柱形微结构的抗反射效果最好,反射率达8%左右,基本达到抗反射设计要求。

主 题 词：严格耦合波分析方法(RCWA) 圆柱形微结构 反应离子刻蚀 反射率 

学科分类：080903[080903] 07[理学] 0809[工学-计算机类] 070205[070205] 08[工学] 0804[工学-材料学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0703[理学-化学类] 0812[工学-测绘类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/irla201645.0622002

馆 藏 号：203166107...