红外30μm亚波长抗反射光栅的制作

作     者：曹召良 卢振武 张平 王淑荣 赵晶丽 李凤有 

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室吉林长春130022 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光电传感技术研究室吉林长春130022 

基　　金：中科院创新基金 ( 2 0 0 2LQ .0 4) 

出 版 物：《红外与毫米波学报》 (Journal of Infrared and Millimeter Waves)

年 卷 期：2004年第23卷第1期

页      码：6-10页

摘      要：利用严格耦合波理论设计出亚波长抗反射光栅 ,并通过等离子体辅助刻蚀制作出了立方状抗反抗光栅 .测量结果发现该光栅具有良好的增透特性 ,并且测得光栅参数和理论设计参数基本一致 ,表明等离子体辅助刻蚀是制作深光栅的有效方法 .对实验结果进行了分析和讨论 ,结果表明 。

主 题 词：亚波长 抗反射光栅 严格耦合波理论 红外技术 等离子体辅助刻蚀 光栅参数 衍射光学元件 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1001-9014.2004.01.002

馆 藏 号：203167479...