交会跟踪CCD像机探测合作目标光功率分析

作     者：刘晓军 倪国强 卢欣 LIU Xiao-jun;NI Guo-qiang;LU Xin

作者机构：北京理工大学光电工程系北京100081 北京控制工程研究所北京100080 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2006年第33卷第1期

页      码：28-30页

摘      要：以辐射度量为标准,从CCD像机灵敏度出发,建立了CCD像机探测合作目标光功率模型以及功率方程,得到了所需合作目标光功率与CCD像机参数的制约关系,分析了CCD像机探测到光点所占像元数与传输距离之间的关系,为交会跟踪系统的设计和性能评估提供了理论依据。

主 题 词：交会跟踪 合作目标 CCD像机 模型 

学科分类：0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 0825[工学-环境科学与工程类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-501X.2006.01.007

馆 藏 号：203178078...