用在可制造性设计中的光刻规则检查

作     者：陆梅君 金晓亮 毛智彪 梁强 LU Mei-jun;JIN Xiao-liang;MAO Zhi-biao;LIANG Qiang

作者机构：上海宏力半导体制造有限公司 

基　　金：上海浦东新区专项基金项目(PKJ2004-58) 

出 版 物：《半导体技术》 (Semiconductor Technology)

年 卷 期：2006年第31卷第12期

页      码：920-923页

摘      要：可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处。本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口。

主 题 词：可制造性设计 光刻规则检查 光学邻近效应修正 设计规则 制程窗口 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-353X.2006.12.011

馆 藏 号：203178310...