全球参考设计:理解IP不均衡

作     者：NICHOLAS CRAVOTTA 

作者机构：CONTRIBUTING TECHNICAL EDITOR特约技术编辑 

出 版 物：《电子设计技术 EDN CHINA》 (EDN CHINA)

年 卷 期：2007年第14卷第12期

页      码：185-186,188,190,192页

摘      要：随着硅片设计和软件设计复杂性的提高，元器件供应商不再只是向工程师提供启动设计所需的数据单，而是提供更多的信息。参考设计是企业将相关IP（知识产权）传递到自己产品中使其得到有效使用的重要方式。“参考设计”一词本身有一些歧义，相同的硅片公司可能表达着不同的含义（见附文1^＊《定义参考设计》）。例如，一家公司服务于北美的FAE（现场应用工程师）可能用这个词汇表示一张纸上的逻辑图，或带有限应用软件的一块评估板。而同一家公司在亚洲工作的FAE则可能用该词汇表示一个全部设计完成、可供量产的产品，也许只缺少塑料外壳（见附文2^＊《MTK先锋的完整设计，在手机中获得事实上的垄断态势》）。

主 题 词：参考设计 不均衡 软件设计 启动设计 有效使用 知识产权 现场应用 应用软件 

学科分类：080904[080904] 0810[工学-土木类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080402[080402] 0804[工学-材料学] 081001[081001] 

馆 藏 号：203178612...