设计质量及其对设计收敛的影响

作     者：Piyush Sancheti Sanjay Churiwala Rob Knoth 

作者机构：Atrenta公司 Magma Design Automation公司 

出 版 物：《电子设计技术 EDN CHINA》 (EDN CHINA)

年 卷 期：2010年第17卷第10期

页      码：52-52,54,56,58,59页

摘      要：在设计早期采取步骤保证质量,可以加快收敛,避免做出失败的硅片。

主 题 词：RTL 设计收敛 网表分析 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

馆 藏 号：203179753...