基于X光移动光刻技术的PMMA微透镜阵列制备

作     者：李以贵 颜平 黄远 杉山进 Li Yigui;Yan Ping;Huang Yuan;Sugiyama Susumu

作者机构：上海应用技术大学理学院上海201418 日本立命馆大学微系统系 

基　　金：国家自然科学基金(51035005) 上海应用技术学院光电精密检测平台建设项目(10210Q140005) 上海应用技术学院引进人才启动基金(YJ2014-03) 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2016年第45卷第6期

页      码：216-220页

摘      要：微透镜阵列的制备已经成为微光学领域的研究热点。利用两次X光移动光刻技术,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为正光刻胶,在PMMA基板上制造了微透镜阵列,并对其制作原理进行了详细说明。设计了制备微透镜阵列用的掩膜图形,并通过掩膜图形模拟仿真,预测了微透镜在两次移动曝光显影后的形状。第一次X光移动光刻后,理论上会得到半圆柱状三维结构;第一次光刻后将掩膜板旋转90°,进行第二次移动曝光光刻,最终在PMMA基板上制备了面积为10 mm×10 mm的30×30个微透镜阵列,阵列中每个微透镜的直径约248μm、厚度约82μm。同时也研究了X光曝光量与PMMA刻蚀深度之间的关系。微透镜阵列形貌测试表明此种制备微透镜阵列的新方法是可行的。

主 题 词：微透镜阵列 微制造 X光光刻 移动光刻 PMMA 

学科分类：080903[080903] 0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 070207[070207] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0802[工学-机械学] 0825[工学-环境科学与工程类] 0704[理学-天文学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/irla201645.0620001

馆 藏 号：203181090...