热蒸发紫外LaF_3薄膜光学常数的表征

作     者：常艳贺 金春水 李春 靳京城 

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130033 中国科学院研究生院北京100049 

出 版 物：《中国激光》 (Chinese Journal of Lasers)

年 卷 期：2012年第39卷第8期

页      码：154-157页

摘      要：薄膜光学常数的精确测定对于设计和制备多层薄膜具有重要意义。在JGS1型熔融石英基底上,采用热蒸发沉积方法制备了不同厚度的LaF3单层薄膜样品,利用光度法来获取弱吸收薄膜和基底的光学常数,计算得到其在185～450nm范围内折射率n和消光系数k的色散曲线。实验结果表明,当膜层厚度较薄时,LaF3薄膜折射率表现出不均匀性现象。随着薄膜厚度的增加,薄膜折射率不均匀性减小。在求解过程中选用不均匀模型后,拟合结果与实际测试光谱曲线吻合得很好,提高了薄膜光学常数的计算精度。

主 题 词：薄膜 光学常数 热蒸发 LaF3 折射率 不均匀性 

学科分类：08[工学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/cjl201239.0807002

馆 藏 号：203187125...